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国家存储器基地落户武汉 填补国内主流存储器领域空白

2016年03月29日 10:45 来源:新华网 参与互动 

  新华社武汉3月29日专电(记者陈俊)总投资240亿美元的国家存储器基地项目28日在武汉东湖高新区正式启动,这将打破我国主流存储器领域的空白。

  基地项目以芯片制造环节为突破口,集存储器产品设计、技术研发、晶圆生产与测试、销售于一体。建设内容包括芯片制造、产业链配套等,将在5年内投资240亿美元,预计到2020年形成月产能30万片的生产规模,到2030年建成每月100万片的产能。

  为保证项目顺利实施,国家集成电路产业投资基金、湖北省集成电路产业投资基金、国开发展基金、湖北省科技投资集团共同出资作为股东,将在武汉新芯集成电路制造有限公司的基础上组建一家公司作为该项目的实施主体公司。

  据介绍,存储器是最大宗的集成电路产品,也是我国进口金额最大的集成电路产品。我国是全球最大的电子信息产业基地,电子整机所用存储器市场需求约2465.5亿元,占我国集成电路市场规模的23.5%。此项目的建设将填补我国主流存储器领域空白,摆脱芯片受制于人的局面。

【编辑:种卿】
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